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HFE 7200 Cas 163702 06 5 Per la pulizia dei semiconduttori

HFE 7200 Cas 163702 06 5 Per la pulizia dei semiconduttori

Sostituzione NOVEC HFE 7200
Principali vantaggi:
1. Bassa tensione superficiale; basso potenziale di evaporazione;
2. Eccellente compatibilità dei materiali; moderata solubilità;
3. Prestazione eccellente dell'isolamento elettrico;
4. Eccellente conduttività termica, stabilità termica e stabilità chimica;
5. Bassa viscosità, piccola variazione di viscosità a bassa temperatura;
6. Asciugare, rimuovere l'umidità, non lasciare segni d'acqua;

Descrizione

HFE 7200 Cas 163702 06 5 per la pulizia dei semiconduttori Telefono:+086-592-5803997

Essendo un solvente fluorurato di prossima-generazione, HFE 7200 stabilisce il punto di riferimento per la pulizia di precisione in ambienti in cui l'affidabilità assoluta non è-negoziabile. Progettato con purezza ultra-elevata, eccezionale compatibilità con i materiali ed evaporazione rapida-senza residui, affronta le sfide di pulizia più impegnative nella produzione di semiconduttori, nell'ottica, nell'elettronica e nella strumentazione medica.

 

Pulizia dei semiconduttori: dalla rimozione dei residui di incisione su scala nano- sui substrati dei wafer alla pulizia delicata di lenti ottiche sensibili ed endoscopi medici, HFE 7200 offre prestazioni costanti e ripetibili senza compromettere l'integrità del substrato. La sua natura non-infiammabile e la bassa tossicità lo rendono una scelta sicura sia per i sistemi automatizzati di sgrassaggio a vapore che per i processi di pulizia manuale, mentre il suo profilo ambientale è in linea con le direttive globali sulla sostenibilità.

 

Laddove i solventi convenzionali non sono all'altezza, HFE 7200 eccelle - garantendo che i componenti critici soddisfino i più elevati standard di pulizia, funzionalità e longevità.

novec hfe 7200
Principali vantaggi dell'HFE 7200 Telefono:+086-592-5803997

 

Principali applicazioni dell'HFE 7200 Telefono:+086-592-5803997

 

1. Pulizia a umido delle apparecchiature di incisione dei semiconduttori; Pulizia dei componenti a cristalli liquidi e del disco rigido
L'HFE 7200 è ampiamente utilizzato nei processi avanzati di pulizia a umido per la fabbricazione di semiconduttori, in particolare nella rimozione dei residui post-etch da wafer e componenti della camera. La sua eccezionale purezza, la bassa tensione superficiale e la rapida evaporazione garantiscono una pulizia accurata senza lasciare contaminanti ionici o particolati. Nei settori dei display e dell'archiviazione dati, è altrettanto efficace per pulire i delicati pannelli dei display a cristalli liquidi (LCD) e i componenti dei dischi rigidi (HDD), preservando la chiarezza ottica e la precisione meccanica ed eliminando oli, particelle e residui organici.

 

2. Pulizia dell'attrezzatura laser e pulizia delle lenti ottiche
Grazie alle sue proprietà non-corrosive e prive di residui-, HFE 7200 è ideale per la manutenzione di sistemi ottici ad alte-prestazioni. Rimuove in modo sicuro polvere, impronte digitali e rivestimenti da ottiche laser, lenti, specchi e sensori senza danneggiare i rivestimenti anti-specializzati o antiriflesso. La sua natura ad asciugatura rapida-previene la formazione di striature, garantendo una trasmissione della luce ottimale e la precisione del sistema in applicazioni critiche come litografia, taglio laser, imaging medico e strumentazione scientifica.

 

3. Pulizia dei componenti elettronici di precisione
HFE 7200 funge da solvente altamente affidabile per lo sgrassaggio e la rimozione del flusso da gruppi elettronici sensibili, inclusi circuiti stampati (PCB), connettori, relè e sistemi microelettromeccanici (MEMS). La sua bassa tossicità e la compatibilità superiore dei materiali consentono un utilizzo sicuro su plastica, elastomeri e metalli, prevenendo rigonfiamenti, fessurazioni o degrado elettrico e garantendo al tempo stesso un'elevata affidabilità dielettrica.

 

4. Settore aeronautico e medico (pulizia di lenti mediche, materiali sensibili speciali)
Nell'aviazione, l'HFE 7200 viene utilizzato per pulire l'avionica, i sistemi di navigazione e i materiali compositi sensibili senza alterarne le proprietà strutturali o elettriche. Nella produzione e manutenzione di dispositivi medici, viene utilizzato per la pulizia di lenti di endoscopi, strumenti chirurgici, sensori diagnostici e altri componenti biocompatibili, dove sterilità, non-reattività e residui zero sono fondamentali.

 

5. Applicazioni di bellezza e cosmetici (trucco/struccante, maschere facciali)
Nelle formulazioni cosmetiche, l'HFE 7200 agisce come vettore volatile o solvente in prodotti quali trucco a lunga tenuta, struccanti waterproof e maschere in tessuto. Le sue caratteristiche delicate, non-irritanti e la rapida evaporazione aiutano a distribuire i principi attivi in ​​modo uniforme senza lasciare residui grassi, migliorando l'esperienza dell'utente e la stabilità del prodotto.

 

6. Agenti detergenti e di risciacquo per sgrassaggio a vapore
HFE 7200 è il solvente preferito nei sistemi di sgrassaggio a vapore a ciclo chiuso-per la rimozione di oli, grassi e cere da parti in metallo, ceramica e polimeri. Il basso punto di ebollizione e l'elevata stabilità consentono una condensazione e un recupero efficienti, riducendo al minimo il consumo di solventi e l'impatto ambientale e ottenendo allo stesso tempo una pulizia di livello industriale-.

 

7. Contenitore del lubrificante
Come fluido vettore in lubrificanti speciali e composti anti-grippaggio, HFE 7200 facilita l'applicazione uniforme di particelle lubrificanti o additivi a complessi meccanici. Evapora rapidamente dopo l'applicazione lasciando un sottile e uniforme velo lubrificante, senza attirare polvere e senza interferire con le tolleranze.

 

8. Solvente specializzato, mezzo di dispersione, mezzo di reazione e solvente di estrazione
L'HFE 7200 viene utilizzato in ricerca e sviluppo e in processi chimici di alto-valore come mezzo inerte per la dispersione di nanomateriali, la conduzione di reazioni chimiche controllate o l'estrazione di composti sensibili. La sua stabilità chimica, la non-polarità e la bassa reattività lo rendono adatto alla gestione di materiali avanzati, prodotti farmaceutici e prodotti della chimica fine.

 

9. Sostituzione di CFC, HCFC, HFC e PFC
Come alternativa ecologicamente responsabile ai solventi-distruttivi dell'ozono e ad alto-potenziale-di riscaldamento globale-(GWP), HFE 7200 offre prestazioni comparabili o superiori con potenziale di riduzione dell'ozono (ODP) pari a zero e un GWP significativamente inferiore. Supporta la conformità alle normative ambientali internazionali come i protocolli di Montreal e Kyoto.

 

10. Fluido per il trasferimento di calore
L'HFE 7200 viene utilizzato nei sistemi di raffreddamento monofase-o bifase-per dispositivi elettronici, sistemi laser e apparecchiature di laboratorio. La stabilità termica, la non{4}}infiammabilità e le proprietà dielettriche consentono una dissipazione del calore efficiente e sicura nelle applicazioni di raffreddamento a contatto diretto o indiretto, incluso il raffreddamento a immersione per il calcolo ad alte prestazioni e l'elettronica di potenza.

hFE 7200 Scheda tecnica Telefono:+086-592-5803997

Aspetto e proprietà

Liquido trasparente incolore

Odore

Inodore

Punto di ebollizione a 1 atm

156-160 gradi

Punto di congelamento

-84,9 gradi

densità del liquido (25 gradi)

1.810 g·mL-1

Punto d'infiammabilità

NO

perdita dielettrica (10 MHz)

0.00418

resistività di volume

Maggiore o uguale a 1.579×1011 Ω·mm

indice di rifrazione

1.308

coefficiente di espansione del volume (20-80 gradi)

5.420×10-3

viscosità cinematica (25 gradi)

3,05 mm2·s-1

Calore specifico

1.151 J·g-1·K-1

coefficiente di conducibilità termica (25 gradi)

0.0656W∙m-1∙K-1

tensione superficiale

17,51 milioniN·m-1

rigidità dielettrica (2,5 mm)

>50,4 kV

costante dielettrica (1 MHz)

4.75

ODP

0

GWP

180

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Profilo Aziendale Telefono:+086-592-5803997

 

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